Разработан реактор химического осаждения из газовой фазы с применением плазмы высокой
плотности на основе источника индуктивно-связанной плазмы. Проведены исследования влияния
аксиального магнитного поля и магнитного поля с нулевым контуром на рабочее давление источника
индуктивно-связанной плазмы. При наличии аксиального магнитного поля величиной 0,7 мТл в
рабочей камере удалось снизить рабочее давление «горения» индуктивно-связанной плазмы вплоть до
5·10-2 Па.