Рассматривается возможность многокритериального контртоля технологических процессов, сопровождающимися оптическими излучениями, посредством формирования векторов выхода на базе спектроскопических измерений дифракционным спектральным прибором. Предложена оптимизационная модель для нахождения наиболее подходящих параметров дифракционной решетки с целью ее эффективного применения в спектроскопических системах контроля. Представлены результаты моделирования дифракционной решетки с возможностью анализа спектров сразу в нескольких дифракционных порядках.