Генерационные свойства и фотостабильность транс-стильбена и его метилзамещенных в растворах исследованы при накачке излучением эксимерного XeCl-лазера. Показано, что фотостабильность соединений зависит от интенсивности из-лучения накачки, а именно она возрастает при увеличении интенсивности облучения. Этот факт объясняется возможной конкуренцией процессов фотоизомеризации молекул и вынужденного излучения