Влияния условий осаждения высококачественных АLN и SIС на характеристики покрытий / В. М. Нарцев [и др.] // Вестник БГТУ им. В. Г. Шухова. - 2013. - № 6. - С. 168-172.
В работе на базе оборудования Центра высоких технологий (ЦВТ) БГТУ им. В.Г. Шухова были проведены первичные исследования влияния условий осаждения из магнетронной плазмы покрытий на их основные характеристики. Установлено, что увеличение доли О2 ведет к уменьшению скорости осаждения. Шероховатость покрытий закономерно увеличивается при снижении общего давления из-за более интенсивной кристаллизации и удаления подложки от мишени из-за формирования островковой структуры.