ИССЛЕДОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ РЕЖИМОВ ИОННОГО АЗОТИРОВАНИЯ В ПЛАЗМЕ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА

Вафин   Р.К.; Швеёва  Т. В.; Асылбаев  А.В.; Мухаметов  Р.И.; Николаев  А.А.

ИССЛЕДОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ РЕЖИМОВ ИОННОГО АЗОТИРОВАНИЯ В ПЛАЗМЕ ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА

Вафин Р.К., Швеёва Т. В., Асылбаев А.В., Мухаметов Р.И., Николаев А.А.

Дата публикации: 2017

Дата публикации в реестре: 2020-03-01T00:12:10Z

Аннотация:

Исследованы вольтамперные характеристики тлеющего разряда в скрещенных электрических и магнитных полях полученные в среде Ar и смеси N2 75% + Ar 20% + C2H2 5% при давлениях 5 Па и 100 Па.

Ключевые слова:
-, -

Тип: article