Систематизированы физические методы исследования структуры, фазового состава, электрофизических свойств материалов и многослойных тонкопленочных структур, используемых в микроэлектронике для создания интегральных микросхем (ИМС), а также для тестового контроля микросхем. Изложены результаты по применению методов контроля и анализа на различных этапах разработки изделий электронной техники, показано их место в технологической цепочке создания ИМС.