Исследованы характеристики сегнетоэлектрических тонких пленок танталата стронция-висмута (SBT)
и легированного ниобием танталата стронция-висмута (SBTN), нанесенных методом высокочастотного магнетронного распыления на подложки Pt/TiO2/SiO2/Si. Для формирования структуры сегнетоэлектрика
нанесенные пленки подвергались последующему отжигу при температуре 970−1070K в атмосфере O2.
The characteristics of ferroelectric thin films of strontium bismuth tantalate (SBT) and niobium-doped strontium bismuth tantalate (SBTN) deposited by radio-frequency (RF) magnetron sputtering on Pt/TiO2/SiO2/Si substrates were investigated. For the formation of the structure of the ferroelectric material, the deposited films were subjected to a subsequent annealing at temperatures of 970–1070 K in an O2 atmo-sphere.