В проточных и статических условиях изучено влияние плазмохимических обработок, а также добавок Се, К и Hf на скорость реакции дегидрирования изопропанола на катализаторе 5 мас. % Co/SiO2. Использованы плазма тлеющего разряда в О2 и Ar и высокочастотная безэлектродная плазма в Н2 (ВЧ-Н2). Во всех случаях, кроме образца, содержавшего Hf, обнаружено увеличение каталитической активности за счет формирования новых активных центров. Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии найдено изменение состава поверхности исходного катализатора после обработки кислородной, аргоновой и ВЧ-Н2-плазмой, а также в присутствии Се. Методом рентгенофазового анализа обнаружено изменение размеров частиц Со и их формы после обработки катализатора ВЧ-Н2-плазмой и в присутствии Се. Предположено, что новые каталитические центры после обработки в О2- и Ar-плазме включают атомы углерода c энергией связи уровня С1s, равной 282.1 эВ; в состав активных центров после обработки ВЧ-Н2-плазмой входят атомы водорода и атомы углерода c энергией связи уровня С1s, равной 282.5 эВ, а в присутствии церия энергия связи уровня C1s равна 297.7 эВ.