Effect of bias voltage on coating homogeneity in plasma immersion ion implantation - «Национальный агрегатор открытых репозиториев российских университетов» (НОРА)

Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

расширенный поиск

Effect of bias voltage on coating homogeneity in plasma immersion ion implantation

Slabodchikov, Vladimir A., Borisov, Dmitry P., Kuznetsov, Vladimir M.

Дата публикации: 2016

Дата публикации в реестре: 2020-03-03T18:53:38Z

Аннотация:

Ключевые слова:
напряжение смещения, гомогенность, ионная имплантация, плазма, никель-титановые сплавы

Тип: статьи в журналах

Источник: AIP Conference Proceedings. 2016. Vol. 1783. P. 020209-1-020209-4

Связанные документы (рекомендация CORE)