Определены значения концентраций основных носителей заряда в приповерхностных варизонных слоях полупроводника из измерений адмиттанса МДП-структур на основе n ( p )-HgCdTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Установлено, что для p- HgCdTe концентрация дырок в варизонном слое близка к интегральной концентрации, определенной методом Холла. Для n -HgCdTe концентрация электронов в варизонном слое возрастает при увеличении градиента состава в приповерхностном широкозонном слое, что может быть связано с генерацией собственных дефектов донорного типа.