Цель исследования – формирование нано- и микроструктурных слоев полупроводниковых сульфидов или оксосульфидов олова(II) методом SILD на планарных прозрачных подложках, а также изучение влияния количества циклов обработки на микроструктуру, состав и электрические свойства пленок.