Вакуумное ионно-плазменное оборудование для получения наноструктурных материалов

Вакуумное ионно-плазменное оборудование для получения наноструктурных материалов

Дата публикации: 2012

Дата публикации в реестре: 2020-03-31T23:31:23Z

Аннотация:

Доступ к полному тексту открыт из сети СФУ, вне сети доступ возможен для читателей Научной библиотеки СФУ или за плату.

В лабораторном практикуме приведены основные требования для выполнения лабораторных работ. Представлены основные сведения о вакуумных сильноточных плазменных технологических устройствах, о вакуумных технологических откачных устройствах, параметры дуговых разрядах низкого давления. Приведены примеры разработки технологических маршрутов для нанесения износостойких нанокристаллических покрытий в вакууме при помощи дугового разряда низкого давления. Предназначен для студентов и магистрантов по направлению 223200.68 «Техническая физика».

Ключевые слова:
наноматериалы, нанокристаллические покрытия, вакуумно-плазменные установки, плазменная обработка материалов, лабораторные практикумы, 621.762:539.2(07)

Тип: Book