Структура тонких пленок диоксида олова, формируемых методом дуального магнетронного распыления

Зайцев, С. В.; Ващилин, В. С.; Прохоренков, Д. С.; Нарцев, В. М.; Евтушенко, Е. И.

Структура тонких пленок диоксида олова, формируемых методом дуального магнетронного распыления

Зайцев, С. В., Ващилин, В. С., Прохоренков, Д. С., Нарцев, В. М., Евтушенко, Е. И.

Дата публикации: 2015

Дата публикации в реестре: 2020-05-29T13:53:26Z

Аннотация:

Структура тонких пленок диоксида олова, формируемых методом дуального магнетронного распыления / С. В. Зайцев [и др.] // Вестник БГТУ им. В. Г. Шухова. - 2015. - № 5. - С. 228-231.

Приведены экспериментальные результаты синтеза тонких пленок (толщиной до 1 мкм) диоксида олова (SnO2), формируемые методом дуального магнетронного распыления металлических ми- шеней в контролируемой атмосфере Ar+O2. Пленки, нанесенные на подложки из стекла и сапфира, исследовались методами рентгенофазового анализа и сканирующей электронной микроскопии. Установлено, что покрытия имеют столбчатую кристаллическую структуру с решеткой типа рутила. Проведен анализ изменения давления в вакуумной камере на скорости осаждения и структуру тонких пленок диоксида олова.

Ключевые слова:
Авторы БГТУ, диоксид олова, магнетронное распыление, рентгеновская дифрактометрия, морфология поверхности

Тип: Article