Дата публикации: 2020

Дата публикации в реестре: 2020-12-02T09:53:50Z

Аннотация:

Модификация поверхности ионным пучком обычно проводится в лабораторных условиях, где скорость обработки не имеет большого значения. Тем не менее интересно обсудить возможности, которые могли бы позволить достичь существенного увеличения (на порядки) скорости обработки для применений в промышленности. Рассматриваются два возможных подхода к ионной модификации поверхностей очень большого размера – использование вакуумных дуговых источников с очень широким пучком и использование ионных источников, разработанных для создания интенсивных нейтральных пучков в рамках всемирных исследований в области термоядерного синтеза. Эти источники могут обеспечивать ток ионного пучка в диапазоне десятков ампер, и уже была продемонстрирована их работа в режиме квазипостоянного тока. Проанализирована также третья возможность – масштабная плазменная иммерсионная ионная имплантация. Представлены гигантские системы модификации поверхности ионным пучком, описываются их параметры и особенности конструкции, а также особенности их систем электропитания.

Тип: статьи в журналах

Права: open access

Источник: Известия высших учебных заведений. Физика. 2020. Т. 63, № 10. С. 136-143