Осаждение многослойного покрытия в газометаллическом пучково-плазменном образовании при низком давлении

Денисов, Владимир Викторович; Денисова, Юлия Александровна; Варданян, Эдуард Леонидович; Островерхов, Евгений Владимирович; Леонов, Андрей Андреевич; Савчук, Михаил Викторович

Осаждение многослойного покрытия в газометаллическом пучково-плазменном образовании при низком давлении

Денисов, Владимир Викторович, Денисова, Юлия Александровна, Варданян, Эдуард Леонидович, Островерхов, Евгений Владимирович, Леонов, Андрей Андреевич, Савчук, Михаил Викторович

Дата публикации: 2021

Дата публикации в реестре: 2021-03-31T16:44:11Z

Аннотация:

Вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом проведено осаждение многослойного покрытия на основе Ti и Al в двух разрядных системах - в традиционной системе плазменно-ассистированного вакуумно-дугового напыления и в системе генерации газометаллических пучково-плазменных образований, формируемых в полом катоде несамостоятельного тлеющего разряда низкого давления. Полученные в исследуемых разрядных схемах покрытия близки по элементному и фазовому составу. В покрытии, напыленном в пучково-плазменном образовании, содержание алюминия ниже на 8 %, что, вероятно, связано с совокупной более высокой средней величиной плотности потока ионов на поверхность растущей пленки в несамостоятельном тлеющем разряде. В этом покрытии отсутствуют элементы, входящие в состав материала распыляемого полого катода. Газометаллические пучково-плазменные образования, формируемые при низком давлении, перспективны в процессах нанесения функциональных покрытий вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом.

Ключевые слова:
многослойные покрытия, пучково-плазменные образования, вакуумно-дуговое осаждение, плазменное ассистирование, разряды низкого давления, газометаллическая плазма

Тип: статьи в журналах

Права: open access

Источник: Известия высших учебных заведений. Физика. 2021. Т. 64, № 1. С. 125-129