Влияния режимов получения на свойства поверхности структур Mo/стекло используемых для тонкопленочных фотопреобразователей

Барайшук, Сергей Михайлович; Туравец, А. И.; Бобрович, Олег Георгиевич; Вертель, М.; Будзинский, М.

Влияния режимов получения на свойства поверхности структур Mo/стекло используемых для тонкопленочных фотопреобразователей

Барайшук, Сергей Михайлович, Туравец, А. И., Бобрович, Олег Георгиевич, Вертель, М., Будзинский, М.

Дата публикации: 2018

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T16:16:47Z

Аннотация:

Методом электронно-зондовой микроскопии (EDX Oxford Instruments AZtecEnergy-Advanced) и атомно-силовой микроскопии (NT 206 (Microtestmachines Со., Беларусь) в контактном режиме, исследовано влияние режимов нанесения Мо покрытия, на свойства поверхности подложек Мо/стекло для тонкопленочных медьсодержащих халькогенидных полупроводниковых материалов, используемых для создания солнечных фотопреобразователей.

Ключевые слова:
тонкопленочные фотопреобразователи, тонкопленочные солнечные элементы, электронно-зондовая микроскопия, атомно-силовая микроскопиия

Тип: Article