Автофокусировка в установках автоматического контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин

Аваков, С. М.; Безлюдов, А. В.; Гайков, Н. И.; Ланин, В. Л.; Огер, В. П.; Титко, Д. С.; Трапашко, Г. А.; Avakow, S. M.; Bezludov, A. V.; Gaikov, N. I.; Lanin, V. L.; Oher, V. P.; Titko, D. S.; Trapashko, G. A.

Автофокусировка в установках автоматического контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин

Аваков, С. М., Безлюдов, А. В., Гайков, Н. И., Ланин, В. Л., Огер, В. П., Титко, Д. С., Трапашко, Г. А., Avakow, S. M., Bezludov, A. V., Gaikov, N. I., Lanin, V. L., Oher, V. P., Titko, D. S., Trapashko, G. A.

Дата публикации: 2015

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:28:26Z

Аннотация:

Для повышения точности автоматизированного контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин предложена система автофокусировки, обеспечивающая удержание поверхности объекта в зоне резкости объектива при последовательном сканировании топологии.In order to increase accuracy of automatic mask and wafer pattern inspection an autofocus system is offered which ensures keeping the plane in objective focus zone during the sequential scanning of the pattern.

Ключевые слова:
публикации ученых, фокусировка, контроль, focus, inspection

Тип: Article

Автофокусировка в установках автоматического контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин

Связанные документы (рекомендация CORE)

Партнеры

Индексация