Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий

Шиманович, Д. Л.

Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий

Дата публикации: 2017

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:36:51Z

Аннотация:

Изучены технологические методы, отработаны соответствующие режимы формирования дополнительных неорганических диэлектрических пленок методом вакуумного напыления на пористых алюмооксидных основаниях с целью получения модифицированных многослойных структур, обладающих закрытой пористостью и приводящих к улучшению теплофизических и электрофизических свойств конечных диэлектрических покрытий на алюминиевых основаниях.

Ключевые слова:
публикации ученых, электрохимическое анодирование, пористый анодный оксид алюминия, вакуумное осаждение, наноструктурированный материал

Тип: Статья

Связанные документы (рекомендация CORE)

Партнеры

Индексация