Электрохимическое  осаждение  никеля  на макро- и мезопористый кремний

Долгий, А. Л.; Клышко, А. А.; Бондаренко, В. П.; Dolgiy, A. L.; Klyshko, A. A.; Bondarenko, V. P.

Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний

Долгий, А. Л., Клышко, А. А., Бондаренко, В. П., Dolgiy, A. L., Klyshko, A. A., Bondarenko, V. P.

Дата публикации: 2009

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:40:23Z

Аннотация:

Методом электрохимического анодирования кремниевых подложек в растворе фтористоводородной кислоты получены слои макро- и мезопористого кремния. Электрохимическим методом на пористый кремний были осаждены слои никеля. Методом сканирующей электронной микроскопии исследована структура полученных образцов. Исследована кинетика роста слоев никеля на мезопористом кремнии различной пористости.Layers of macro- and mesoporous silicon have been obtained by electrochemical anodization of silicon substrates in HF solution. Layers of nickel have been electrochemically deposited on porous silicon. Structure of samples has been examined with help of scanning electron microscopy. Kinetics of growth of nickel layers on mesoporous silicon with difference of porosity values has been investigated.

Ключевые слова:
доклады БГУИР, электрохимическое анодирование, пористый кремний, сканирующая электронная микроскопия, электрохимическое осаждение, никель

Тип: Статья