Представлены результаты моделирования с использованием метода Монте-Карло
процессов переноса электронов в трехмерной полупроводниковой структуре, содержащей одиночный
слой графена. Использование графена, который обладает высокой подвижностью носителей заряда,
высокой теплопроводностью и рядом других положительных свойств, является перспективным
для создания новых полупроводниковых приборов с хорошими выходными характеристиками.
В результате моделирования получены зависимости скорости, средней энергии, подвижности,
коэффициента диффузии от длины структуры и напряженности электического поля
в полупроводниковой структуре, содержащей слой графена и области из материала карбида кремния
типа 4Н-SiC. The results of modeling of electron transfer processes in a three-dimensional semiconductor structure
containing a single layer of graphene using the Monte-Carlo method are presented. The use of graphene, which
has a high mobility of charge carriers, high thermal conductivity and a number of other positive properties,
is promising for the creation of new semiconductor devices with good output characteristics. As a result
of modeling, the dependences of the velocity, average energy, mobility, diffusion coefficient on the structure
length and electric field intensity in a semiconductor structure containing a graphene layer and a region
of a 4H-SiC silicon carbide material are obtained.