Системы концентрации СВЧ и НЧ энергии для возбуждения комбинированного разряда

Козлова, С. А.

Системы концентрации СВЧ и НЧ энергии для возбуждения комбинированного разряда

Дата публикации: 2019

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:49:10Z

Аннотация:

Представлены конструкции систем подвода и концентрации СВЧ и НЧ энергии в двухчастотном плазменном разрядном устройстве, предназначенном для целей реактивно-ионного травления материалов при формировании элементов микроструктуры изделий электронной техники. Основу конструкции составляет СВЧ плазмотрон резонаторного типа с аппликатором в форме замкнутой в кольцо волнововодно-щелевой антенны. По оси СВЧ аппликатора располагается вакуумированная кварцевая камера, по торцам которой размещены плоские электроды низкочастотной газоразрядной системы емкостного типа.

Ключевые слова:
материалы конференций, СВЧ-плазма, СВЧ-энергия, плазма, низкочастотный генератор

Тип: Статья