Актуальной научной и практической задачей является
комплексное компьютерное моделирование и проектирование, как отдельных
высокоэффективных магнетронных распылительных систем, так и
технологических процессов нанесения тонких пленок, и систем магнетронно-
го распыления с различным взаимным расположением магнетронных распылительных систем относительно подложек, которые обеспечивают высокое качество наносимых пленок. Это
позволит сократить время и стоимость разработок, а также минимизировать
возможные ошибки при проектировании таких систем.