Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

Комплексное моделирование планарных магнетронных распылительных систем и процессов нанесения тонких пленок металлов

Дата публикации: 2019

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:50:40Z

Аннотация:

Актуальной научной и практической задачей является комплексное компьютерное моделирование и проектирование, как отдельных высокоэффективных магнетронных распылительных систем, так и технологических процессов нанесения тонких пленок, и систем магнетронно- го распыления с различным взаимным расположением магнетронных распылительных систем относительно подложек, которые обеспечивают высокое качество наносимых пленок. Это позволит сократить время и стоимость разработок, а также минимизировать возможные ошибки при проектировании таких систем.

Тип: Автореферат


Связанные документы (рекомендация CORE)