Для регистрации скорости нанесения при ионно-лучевом и ионно-плазменном распылении был разработан кварцевый датчик. Данный датчик предназначен для работы в системах кварцевого контроля толщины и скорости роста пленок в технологическом оборудовании вакуумного ионно-плазменного нанесения слоев и при проведении научных исследований.