Бесшаблонная литография как фактор ускорения проектирования интеллектуальных защитных систем

Баранов, И. Л.; Черных, А. Г.; Тымощик, А. С.

Бесшаблонная литография как фактор ускорения проектирования интеллектуальных защитных систем

Баранов, И. Л., Черных, А. Г., Тымощик, А. С.

Дата публикации: 2010

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:56:22Z

Аннотация:

Повышение конкурентоспособности требует существенного сокращения сроков проектирования и изготовления специализированных ИС при разработке новейших интеллектуальных защитных электронных систем. Мелкосерийность, как особенность производства таких пилотных проектов, не позволяет изготавливать их на обычном крупносерийном производстве, которому это экономически невыгодно.

Ключевые слова:
материалы конференций, защитные системы, интеллектуальные защитные системы, литография, бесшаблонная литография

Тип: Статья

Бесшаблонная литография как фактор ускорения проектирования интеллектуальных защитных систем

Связанные документы (рекомендация CORE)

Партнеры

Индексация