Методы контроля процессов плазменного травления материалов

Клакевич, М. С.; Klakevich, M. S.

Методы контроля процессов плазменного травления материалов

Дата публикации: 2021

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T18:01:14Z

Аннотация:

Проанализированы методы контроля процессов плазменного травления материалов, рассмотрены их достоинства и недостатки. Methods for controlling the processes of plasma etching of materials has been reviewed, their advantages and disadvantages has been reviewed.

Ключевые слова:
материалы конференций, спектроскопия, контроль плазменного травления, spectroscopy, plasma etching control

Тип: Статья

Методы контроля процессов плазменного травления материалов

Связанные документы (рекомендация CORE)

Партнеры

Индексация