Цель работы: установление закономерностей и характерных особенностей формирования, поддержания и управления взаимодействием химически активной плазмы СВЧ разряда с поверхностью твердого тела при низком вакууме в плазмотроне резонаторного типа с частичным заполнением плазмой объема резонирующей камеры и на этой основе обеспечение выбора высокоэффективных режимов проведения технологических процессов и совершенствование конструкции оборудования СВЧ плазмохимической обработки материалов.The aim of the work: To establish patterns and characteristics of the formation, maintenance and management of interaction of chemically active plasma microwave discharge with a surface of solid at low vacuum in plazmatron of a cavity-type partially filled with plasma volume resonating chamber and on this basis, providing of the choice of highly efficient modes of carrying out the technological processes and improving hardware design of microwave plasma-chemical processing of materials.