Цель работы заключается в создании функциональных микро- и наноразмерных слоев с заданными свойствами в твердотельных структурах путем модификации монокристаллического кремния металлами Ni, Со, Fe и Pd с помощью методов ионной имплантации и ионно-плазменного нанесения для интеграции изделий микроэлектроники и спинтроники.The aim consists in creation of functional micro- and nanosized layers with given properties in solid state structures by modifying the single crystal silicon by Ni, Co, Fe and Pd metals by means of ion implantation and ion-plasma deposition for integration of microelectronics and spintronics wares.