Дата публикации: 2002

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T18:05:07Z

Аннотация:

Целью работы является разработка конструкторско-технологических методов и средств обратной литографии с использованием тонких маскирующих пленок металлов и оксидов на их основе. The aim of the work is to research influence of low-temperature and high-temperature treatment conditions on thin films of different metals and their oxides on local modification, electrochemical and thermal oxidation for using them as masks for lift-off lithography to produce patterns of submicron dimensions

Тип: Abstract of the thesis