Материалов:
1 082 141

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

Диффузионное ограничение темнового тока в nBn-структурах на основе МЛЭ HgCdTe

Дата публикации: 2020

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T23:20:59Z

Аннотация:

Изучены темновые токи в средневолновых nBn-структурах на основе HgCdTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках из GaAs (013). Пассивация поверхности боковых стенок мезаструктур проводилась путем формирования пленок Al2O3 методом плазменного атомно-слоевого осаждения. Показано, что при составе в барьерном слое, равном 0,84, в nBn-структурах доминирует объемная компонента темнового тока. Энергия активации тока близка к ширине запрещенной зоны поглощающего слоя. Сопоставление экспериментальных результатов с эмпирической моделью Rule07 показало, что в диапазоне температур 180–300 К в изготовленных структурах реализуется диффузионное ограничение темнового тока. Из проведенных исследований следует, что молекулярно-лучевая эпитаксия HgCdTe на альтернативных подложках является перспективным способом создания униполярных барьерных детекторов для спектрального диапазона 3–5 мкм.

Тип: статьи в журналах

Права: open access

Источник: Прикладная физика. 2020. № 1. С. 25-31


Связанные документы (рекомендация CORE)