Проведен анализ структуры и свойств покрытия состава SnO2−In2O3−Ag−N, сформированного на меди комплексным методом, сочетающим электровзрывное напыление, облучение импульсным электронным пучком и последующее азотирование в плазме газового разряда низкого давления. Показано, что толщина покрытия составляет ≈ 100 мкм. Износостойкость медного образца с нанесенным покрытием превышает износостойкость меди без покрытия в 2.8 раза. Коэффициент трения образцов с покрытием μ = 0.479 меньше коэффициента трения меди без покрытия μ = 0.679±0.048 в 1.4 раза. Установлено, что твердость покрытия увеличивается по мере приближения к подложке и достигает максимального значения ≈ (1400±98) МПа (твердость подложки 1270 МПа). Методами микрорентгеноспектрального анализа выявлено, что основным химическим элементом покрытия является серебро, в значительно меньшем количестве присутствуют медь, олово, индий, кислород и азот. Методами рентгенофазового анализа установлено, что основными фазами покрытия являются твердые растворы на основе меди и серебра.