Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

Образование ячеистой структуры в слоях SiGe при наносекундном лазерном облучении

Дата публикации: 2015

Дата публикации в реестре: 2020-02-28T12:18:54Z

Аннотация:

Проведено численное моделирование процессов нагрева, плавления и кристаллизации твердого раствора SiGe на кремниевой подложке, происходящих под действием наносекундного лазерного излучения, и проанализирован механизм формирования ячеистых структур из-за сегрегационного разделения элементов на стадии отвердевания бинарного расплава. Результаты вычислений сопоставлены с известными экспериментальными данными, характеризующими продолжительность лазерно-индуцированных фазовых превращений и средний размер ячеек (образующихся вследствие эффекта концентрационного переохлаждения) в зависимости от плотности энергии в лазерном импульсе.

Тип: Статья (Article)


Связанные документы (рекомендация CORE)