Водные композиции на основе наноразмерных частиц диоксида кремния для химико-механической полировки пластин монокристаллического кремния

Косенок, Я.А.; Гайшун, В.Е.; Тюленкова, О.И.; Денисман, В.Г.; Kosenok, Ya.А.; Gaishun, V.E.; Tyulenkova, O.I.; Denisman, V.G.

Водные композиции на основе наноразмерных частиц диоксида кремния для химико-механической полировки пластин монокристаллического кремния

Косенок, Я.А., Гайшун, В.Е., Тюленкова, О.И., Денисман, В.Г., Kosenok, Ya.А., Gaishun, V.E., Tyulenkova, O.I., Denisman, V.G.

Дата публикации: 2014

Дата публикации в реестре: 2023-11-01T13:45:42Z

Аннотация:

Описывается методика приготовления суспензий на основе наноразмерных частиц пирогенного диоксида кремния. Исследуется процесс и приводятся результаты химико-механической полировки пластин монокристаллического кремния, проведенные в производственных условиях. Даются рекомендации по использованию полирующих композиций в процессе химико-механической полировки. При использовании полирующих суспензий СПС-81М и СПС-55М в процессе ХМП пластин монокристаллического кремния достигается высокое структурное совершенство и атомарная гладкость поверхности с шероховатостью на уровне десятых долей нанометра. The method of preparation of suspensions based on nano-sized particles of fumed silica is described. The process and results of chemical-mechanical polishing of silicon wafers carried out in industrial environments are investigated. Recommendations on the use of polishing compositions in the chemical-mechanical polishing are making. When using the polishing suspensions SPS-81M and SPS-55M in the process of single-crystal silicon wafer CMP, high structural perfection and atomic smoothness of the surface roughness are achieved at the level of tenths of a nanometer.

Ключевые слова:
химико-механическое полирование, пирогенный диоксид кремния, наноразмерные частицы, поверхность, шероховатость, chemical-mechanical polishing, fumed silica, nanosized particles, surface, roughness

Тип: Article

Права: open access