Изучен метод глубокого ионного легирования материалов, основанного на синергии высокоинтенсивной имплантации и энергетического воздействия на поверхность пучка ионов с высокой плотностью мощности субмиллисекундной длительности. Показана возможность получения ионно-легированных слоёв с толщиной от менее 0.1 мкм до более чем 1 мкм в зависимости от флюенса облучения.