Проведено исследование генерационных характеристик YVO 4:Er-лазера при резонансной накачке в области 1.5-1.6 мкм. Получена лазерная генерация на l = 1603 нм с дифференциальной эффективностью до 61 %. Показана перспективность создания эффективных лазеров с резонансной накачкой на основе кристалла YVO 4:Er.