Дата публикации: 2023

Дата публикации в реестре: 2024-03-01T13:17:33Z

Аннотация:

Рассмотрены схемы реакторов технологического оборудования индуктивносвязной плазмы с объемным расположением подложек, с помощью которых возможно проводить обработку поверхности нитрида кремния, направленные на получение гладкой морфологии с высокой анизотропией слоев.

Тип: Article