Дата публикации: 2023

Дата публикации в реестре: 2024-03-01T13:27:10Z

Аннотация:

Контроль технологических этапов формирования изделий полупроводниковой техники может производится посредством анализа комплекта полученных изображений топологических слоев интегральных микросхем. Проанализированы преимущества применения растровой электронной микроскопия в сочетании с локальным ионно-лучевым препарированием как средство анализа вертикальной структуры интегральных микросхем.

Тип: Article