Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

Анализ технологии плазменной обработки полупроводниковых структур

Дата публикации: 2022

Дата публикации в реестре: 2024-03-01T13:27:32Z

Аннотация:

Проведен анализ разновидностей сухого травления, в частности такого вида сухого травления как ионно-плазменная обработка. Описано влияние на пластину и ее поверхность данного вида травления. An analysis of the varieties of dry etching, in particular, such a type of dry etching as ion-plasma processing, has been carried out. The effect of this type of etching on the wafer and its surface is described.

Тип: Статья


Связанные документы (рекомендация CORE)