Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру

Доан, Х. Т.; Голосов, Д. А.; Бурдовицин, В. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.

Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру

Доан, Х. Т., Голосов, Д. А., Бурдовицин, В. А., Завадский, С. М., Мельников, С. Н.

Дата публикации: 2022

Дата публикации в реестре: 2024-03-01T13:34:04Z

Аннотация:

Проведены исследования процессов реактивного магнетронного распыления Ta мишени в Ar/O2 смеси газов. Установлены зависимости напряжения разряда, скорости нанесения и электрофизических характеристик пленок оксида тантала от способа газоподачи и концентрации кислорода в Ar/O2 смеси газов. Установлено, что металлический, переходной и реактивный режим работы системы распыления определяются изменением скорости нанесения пленок. Независимо от способа подачи рабочих газов в камеру, начальное формирование диэлектрических пленок оксида тантала с низким оптическим поглощением наблюдается в переходном режиме работы системы.

Ключевые слова:
публикации ученых, тонкие пленки, оксид тантала, реактивное магнетронное распыление, диэлектрические свойства

Тип: Article