Целью исследования является разработка методов контролируемого
формирования тонких пленок сложных оксидов реактивным магнетронным
распылением составных мишеней, методов контроля и управления их составом, электрофизическими свойствами, которые определяют возможность использования данного класса пленок в качестве диэлектрических слоев современных МОП интегральных схем.