Зарядовые состояния МОП-структур of the processes occurring on the surface of
MOS structures during plasma processing, the causes of the occurrence
Charge properties of a MOS transistor structure with a channel made of a two-dimensional crystalMakovskaya, T. I.,
Danilyuk, A. L.,
Krivosheeva, A. V.,
Shaposhnikov, V. L.,
Borisenko, V. E.,
Маковская, Т. И.,
Данилюк, А. Л.,
Кривошеева, А. В.,
Шапошников, В. Л.,
Борисенко, В. Е. , appearing in traditional
MOS transistors while decreasing their dimensions. In this paper the model has been
Изучение качества жизни пациентов с рассеянным склерозом при помощи опросников MSIS-29 и MOS SF 36Изучение качества жизни пациентов с рассеянным склерозом при помощи опросников MSIS-29 и
MOS SF 36
Модификация ширины запрещенной зоны MoS2 при замещении атомов серы атомами теллураКривошеева, А. В.,
Шапошников, В. Л.,
Борисенко, В. Е.,
Krivosheeva, A. V.,
Shaposhnikov, V. L.,
Borisenko, V. E. Установлено, что ширина запрещенной зоны слоя
MoS2 (дисульфида молибдена)
мономолекулярной
Electronic and dynamical properties of bulk and layered MoS2Electronic and dynamical properties of
MoS2 are determined by means of theoretical calculations
Влияние гамма-излучения на МОП/КНИ-транзисторыБогатырев, Ю. В.,
Ластовский, С. Б.,
Сорока, С. А.,
Шведов, С. В.,
Огородников, Д. А.,
Bogatyrev, Yu. V,
Lastovsky, S. B.,
Soroka, S. A.,
Shwedov, S. V.,
Ogorodnikov, D. A. режимами. The results of experimental researches of influence of gamma radiation Со60 on test
MOS Моделирование прямой ветви вольт-амперных характеристик диодов Шоттки с МОП-канавкамиSimulation of forward current-voltage characteristics for Schottky diodes with
MOS trenches
Screening design and device/technology deep- submicron MOSFET simulation deep-
submicron
MOS-FET model was investigated in the presented work. The screening