Фоточувствительные структуры на основе FEIN2S4. Эта технология позволяет получить
материалы с градиентной структурой, при этом могут быть использованы
Формирование гибких конструкций экранов ЭМИ на основе порошковых клеевых материалов характеристиками показали композитные
материалы на основе порошка силикагеля (15%), диоксида титана (15%) и клея