Осаждение многослойного покрытия в газометаллическом пучково-плазменном образовании при низком давленииДенисов, Владимир Викторович,
Денисова, Юлия Александровна,
Варданян, Эдуард Леонидович,
Островерхов, Евгений Владимирович,
Леонов, Андрей Андреевич,
Савчук, Михаил Викторович несамостоятельного тлеющего разряда низкого
давления. Полученные в исследуемых разрядных схемах покрытия близки по
Особенности нанесения пленок SiNx методом ICP CVD в области повышенного давления плазмохимического осаждения из газовой фазы в индуктивно -
связанной плазме (ICP CVD) в области повышенного
давления