Особенности экранирования аппаратуры, подверженной действию ВЧ- и СВЧ-помех. важно не только обеспечить ее защиту от воздействия
ВЧ и СВЧ электромагнитных помех (ЭМП
Оптические характеристики пленок оксида никеля, полученных методом ВЧ магнетронного напыления установлена их зависимость от условий формирования пленок методом
ВЧ магнетронного напыления. Сравнительный
Методы исследования влияния ВЧ и СВЧ помех на работу микросхемУровни наводимых на сигнальных проводах, шинах питания и заземления радиоэлектронных устройств
ВЧ и
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПОТОКА ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЫ ПРИ ПОНИЖЕННЫХ ДАВЛЕНИЯХРазработана математическая модель течения разреженной
ВЧ-плазмы в двухкомпонентном приближении