Модификация анодно-оксидных покрытий сплава алюминия АД 31Целью данной работы явилось
анодирование сплава АД 31 в 20%-й серной кислоте в присутствии
Прозрачные проводящие покрытия на основе алюминиевой решетки, встроенной в анодный оксид алюминия пленки алюминия, фотолитография с маской сетки, локальное пористое
анодирование алюминия, удаление маски
Скрытые люминесцирующие изображения резистивную маску. Второй способ получения изображений отличается тем, что вначале проводится
анодирование Влияние анодной обработки на электросопротивление наноплёнок сплава WTi пленки с сопротивлением от 100 до 500 Ом·м–1.
Анодирование до 195 В со скоростью развертки 0,3 В·с–1
Формирование столбиковых наноструктур при анодировании двухслойной системы Al/Nb в вакууме были нанесены тонкопленочные системы Nb (снизу) - А1 (200 нм-1,5 мкм).
Анодирование всех
Способ изготовления тонкопленочного конденсатора цикле осуществляют пористое электрохимическое
анодирование второго и первого слоев алюминия в 0,4 M