Дефектообразование в арсениде галлия при имплантации ионов алюминия и фосфораВ настоящей работе методом резерфордовского обратного рассеяния
ионов гелия в сочетании с
Анализ химического состава поверхностного слоя графита, модифицированного ионно-ассистируемым осаждением молибдена ассистирования ионами Мо+. Анализ выполнен с применением методов резерфордовского обратного рассеяния
ионов гелия Элементный состав структуры Cu/Al, сформированной динамическим атомным перемешиваниемВ данной работе с помощью резерфордовского обратного рассеяния
ионов гелия в сочетании с
Элементный состав и микротвердость структур Mo-W/Al, Ti-Mo-W/Al, сформированных последовательным осаждением покрытий-ассистированного осаждения в условиях саморадиации. С помощью резерфордовского обратного рассеяния
ионов гелия в сочетании с