В работе приведены результаты изучения элементного состава покрытия, распределение элементов в покрытии и их химические связи при формировании структур Мо - графит, создаваемых нанесением Мо в условиях ассистирования ионами Мо+. Анализ выполнен с применением методов резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.