Мишени SiO₂ : CuO (Cu°) для нанесения тонких пленок ионно-лучевым распылением, полученные золь-гель методом, формируемых на основе диоксида
кремния, а именно – пирогенного кремнезема марки А-380 (техническое название
Структура и морфология слоев CrSi 2, сформированных при быстрой термообработкеСоловьёв, Я. А.,
Пилипенко, В. А.,
Гайдук, П. И.,
Solovjov, J. A.,
Pillipenko, V. A.,
Gaiduk, P. I. электронной микроскопии поперечных сечений исследовано
формирование слоев
дисилицида хрома на
Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеруДоан, Х.Т.,
Голосов, Д.А.,
Бурдовицин, В.А.,
Завадский, С.М.,
Мельников, С.Н.,
Doan, H.T.,
Golosov, D.A.,
Burdovitsin, V.A.,
Zavadski, S.M.,
Melnikov, S.N. скорости нанесения
пленок. Независимо от способа подачи рабочих газов в камеру, начальное
формирование Болометрические характеристики пленок оксида ванадия при легировании вольфрамом сопротивления
пленок смещался с 16.7 % до 22.4 % O2. Однако
формирование пленок с высоким ТКС наблюдалось в
Формирование нанокомпозитных материалов на основе пористого кремния и оксида цинка электрохимическим методомШерстнёв, А. И.,
Чубенко, Е. Б.,
Редько, С. В.,
Петрович, В. А.,
Пилипенко, В. А.,
Бондаренко, В. П.,
Sherstnyov, A. I.,
Chubenko, E. B.,
Redko, S. V.,
Petrovich, V. A.,
Pilipenko, V. A.,
Bondarenko, V. P. упорядоченные матрицы пористого
кремния, сформированные в импульсном
гальваностатическом режиме