Материалов:
1 005 021

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

По вашему запросу найдено документов: 5489

Страница 4 из 549

Влияние параметров синтеза гетероструктур Si/Ge с квантовыми точками Ge на морфологию массива квантовых точек GeВлияние параметров синтеза гетероструктур Si/Ge с квантовыми точками Ge на морфологию массива

Synthesis and High-Temperature Thermodynamic Properties of the InFeGe2O7 and GdGeGe2O7Synthesis and High-Temperature Thermodynamic Properties of the InFeGe2O7 and GdGeGe2O7

Особенности фазообразования в системе Cd-Ge-AsУстановлены особенности фазообразования в системе Cd–Ge–As при синтезе монокристал- лов CdGeAs2

Formation of Ge/Si nanoscale structures at different growth conditions by molecular beam epitaxy of growth parameters. Formation of Ge quantum dots in hut-island form is observed during deposition of Ge

AZF-FACTOR IN PATHOSPERMIA

NATURAL ECOSYSTEMS USING BY POWER FACILITIES IN MOSCOW

Расчет параметров фоточувствительных структур на основе наногетероструктур Ge/SiРасчет параметров фоточувствительных структур на основе наногетероструктур Ge/Si

REVIEW OF THE BOOK: China’s Initiatives: Responses to an Uncertain World. Chief Editor Su Ge. Beijing: World Affairs Press, 2017. 454 pREVIEW OF THE BOOK: China’s Initiatives: Responses to an Uncertain World. Chief Editor Su Ge

Моделирование параметров транзисторов на основе эпитаксиальных пленок Si, Ge, GeSi, выращенных методом МЛЭ: выпускная бакалаврская работа по направлению подготовки: 12.03.03 - Фотоника и оптоинформатикаМоделирование параметров транзисторов на основе эпитаксиальных пленок Si, Ge, GeSi, выращенных

Дифракция быстрых электронов при эпитаксиальном росте Ge, GeSi на подложках Si(100), Si(111): выпускная бакалаврская работа по направлению подготовки: 12.03.05 - Лазерная техника и лазерные технологииДифракция быстрых электронов при эпитаксиальном росте Ge, GeSi на подложках Si(100), Si(111

Страница 4 из 549