Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

По вашему запросу найдено документов: 3829

Страница 2 из 383

Высоковакуумное реактивное магнетронное нанесение пленок оксида алюминия
Доан, Х. Т.
. The processes of deposition of aluminum oxide films under low-pressure pulsed reactive magnetron sputtering
Трибологические характеристики покрытий TiN, полученные методом реак-тивного магнетронного распыления при пониженном давлении
Ермоленко, М. В., Завадский, С. М., Голосов, Д. А., Мельников, С. Н., Замбург, Е. Г.
Tribological behavior of TiN films depositid by reactive magnetron sputtering under low pressure
Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру
Доан, Х.Т., Голосов, Д.А., Бурдовицин, В.А., Завадский, С.М., Мельников, С.Н., Doan, H.T., Golosov, D.A., Burdovitsin, V.A., Zavadski, S.M., Melnikov, S.N.
системы. = The processes of reactive magnetron sputtering of a Ta target in an Ar / O2 gas mixture have
Modification of PCL scaffolds by reactive magnetron sputtering: a possibility for modulating macrophage responses
Kudryavtseva, Valeriya L., Bolbasov, Evgeny N., Shesterikov, Evgeny V., Larionova, Irina V., Shapovalova, Yelena G., Domracheva, Liubov V., Volokhova, Apollinariya A., Kurzina, Irina A., Zhukov, Yuri M., Stankevich, Ksenia S., Malashicheva, Anna B., Kzhyshkowska, Julia G., Tverdokhlebov, Sergey I.
Direct current (DC) reactive magnetron sputtering is as an efficient method for enhancing
Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления
Бурмаков, А. П., Кулешов, В. Н., Столяров, А. В.
System of stabilization of reactive magnetron sputtering process
ELECTRICAL PROPERTIES OF TITANIUM NITRIDE FILMS SYNTHESIZED BY REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING
Mohammed W.M., Gumarov A.I., Vakhitov I.R., Yanilkin I.V., Nikitin S.I., Tagirov L.R., Yusupov R.V.
of titanium nitride thin films deposited by the reactive dc magnetron sputtering will be discussed
Balanced magnetic field in magnetron sputtering systems
Golosov, D. A., Голосов, Д. А.
Discharge characteristics of the planar axial magnetron sputtering systems (MSS) with different
Исследование влияния обработки поверхности полимерных скаффолдов методом магнетронного распыления на высвобождение инкорпорированных лекарственных средств
Файт, Арина Олеговна, Волохова, Аполлинария Александровна
magnetron sputtering treatment on the release of the incorporated chloramphenicol. Scaffolds with 50 wt
Электрофизические свойства пленок оксида ванадия, нанесенных методом реактивного магнетронного распыления
Нгуен, Т. Д., Занько, А. И., Голосов, Д. А., Завадский, С. М., Мельников, С. Н., Колос, В. В., Nguen, T. D., Zanko, A. I., Golosov, D. A., Zavadski, S. M., Melnikov, S. N., Kolos, V. V.
of vanadium oxide films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering of a vanadium target in an Ar/O2
Electrical properties of titanium nitride films synthesized by reactive magnetron sputtering
Mohammed W., Gumarov A., Vakhitov I., Yanilkin I., Kiiamov A., Kharintsev S., Nikitin S., Tagirov L., Yusupov R.
© Published under licence by IOP Publishing Ltd. Reactive dc magnetron sputtering was employed

Страница 2 из 383

Фасеты

Партнеры

КФУ
ТГУ
Elpub
СФУ
Webpublishers

Индексация

BASE
WorldCat
OpenAIRE
EDS
core