Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

По вашему запросу найдено документов: 3829

Страница 9 из 383

Comparison study on the properties of the CaP coatings formed by RF-magnetron sputtering of the Mg- and Sr-substituted ß-tricalcium phosphate and hydroxyapatite
Fedotkin, Alexander, Kozelskaya, Anna, Korotchenko, Natalya M., Gigilev, Alexander, Shesterikov, Evgeny V., Tverdokhlebov, Sergey I.
-tricalcium phosphate and hydroxyapatite powder targets on the deposition rate of coatings formed via RF-magnetron
КОМПЛЕКСНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ НЕРАВНОМЕРНОСТИ СВОЙСТВ ТОНКОПЛЕНОЧНОГО КАТОДА LiCoO2, ИЗГОТОВЛЕННОГО МЕТОДОМ ВЧ-МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ
Курбатов С.В., Рудый А.С., Наумов В.В., Мироненко А.А., Савенко О.В., Смирнова М.А., Мазалецкий Л.А., Пухов Д.Э.
by magnetron sputtering on the capacity of all-solid-state thin-film lithium-ion batteries (ASSLib) was studied
Microstructure and properties of nanocomposite Al-Si-N system coatings produced by magnetron sputtering
Bozhko, Irina A., Pershukova, Anastasiya, Fedorischeva, Marina, Khristenko, Yury F., Sergeev, Victor P., Rybalko, Evgeniya
and optical properties of Al-Si-N system coating obtained by magnetron sputtering. The thickness
Structure and optical-mechanical properties of the Zr-Y-O coatings deposited by pulse magnetron sputtering on optical glass
Dorofeeva, T. I., Kalashnikov, Mark P., Bozhko, Irina A., Fedorischeva, Marina V., Sergeev, Victor P., Khristenko, Yury F., Ivanova, A. V.
on the basis of the Zr-Y-O system produced by pulsed magnetron sputtering on the K208 glass substrates
VACUUM METHODS FOR THE DEPOSITION OF FUNCTIONAL LAYERS FOR TRANSPARENT ELECTRONICS
Abduev A.Kh., Generalov D.V., Tirado J., Akhmedov A.K., Asvarov A.Sh.
magnetron sputtering
Giant hydrogen effect on the structure and physical properties of ZnO and Co-doped ZnO films fabricated by the RF magnetron sputtering in Ar+H2 atmosphere
Edelman, I. S., Chou, Hsiung, Samoshkina, Yu. E., Lin, Hsien C., Жарков, Сергей Михайлович
fabricated by the RF magnetron sputtering in Ar+H2 atmosphere
Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении
Достанко, А.П., Голосов, Д.А., Завадский, С.М., Мельников, С.Н., Окоджи, Д.Э., Котинго, Д.Д., Рубан, Г.М.
Formation of titanium nitride films by reactive magnetron sputtering under low pressure
Активные слои легированные редкоземельными металлами для повышения эффективности солнечных элементов
Малютина-Бронская, В.В., Залесский, В.Б., Леонова, Т.Р., Поликанин, А.М., Мудрый, В.А., Семченко, А.В., Сидский, В.В., Malyutina-Bronskaya, V.V., Zalesskiy, V.B., Leonova, T.R., Polikanin, A.M., Mudryy, V.A., Semchenko, A.V., Sidsky, V.V.
the characteristics of photovoltaic structures Al-Ni/ZnO:Er/Si, obtained by magnetron sputtering, and structures Al
Оптимизация методов формирования Cu-C покрытий электротехнического назначения
Купо, А. Н., Руденков, А. С., Цзинцзе, В., Пилипцов, Д. Г.
as their simultaneous use) and high-power pulsed magnetron sputtering were studied. It was noted that varying
Использование ионного травления металла для улучшения адгезии DLC-покрытий, получаемых методом HiPIMS
Пигаль, Р. В., Боровиков, С. М., Лагуцкий, И. А., Терещук, О. И.
pulsed magnetron sputtering

Страница 9 из 383

Фасеты

Партнеры

КФУ
ТГУ
Elpub
СФУ
Webpublishers

Индексация

BASE
WorldCat
OpenAIRE
EDS
core